光罩護膜製造商微相科技(Micro Lithography Inc.)自開始生產DUV pellicle至今已經超過十年，繼film 601(只適用於248nm)及film 602(適用於i-line及248nm)之後，再研發出film 701，可實際運用在193nm顯影技術，作為0.25微米至0.15微米製程的上游材料。

薄膜使用fluoropolymer為材料，厚度為0.8μm，具有高透光性(99.0%min@ 193nm)及均勻的透光度(transmission uniformity)，使顯影效果良好，life time至少20,000Jouls以上，並經過美國與日本之學術機構實驗及測試合格。MLI的光罩護膜有各種型號，可配合ASML，Canon，Nikon，和SVGL的steppers，也能因應使用者的特殊規格而設計pellicle frame。