公開資訊觀測站重大訊息公告
聯電-聯電與大日本印刷(DNP)結盟，雙方協定共同開發先進的0.10微米光罩。
聯華電子股份有限公司與日本擁有一流光罩技術的大日本印刷株式會社(Dai Nippon Printing Co., Ltd., 以下簡稱DNP)公司宣佈，雙方已簽訂一項為期數年的協定，聯電將獲得DNP保障提供先進的光罩服務。此外，雙方將共同為0.10微米光罩制定最適當之規格，而0.10微米世代已被業界公認為製程技術的下一座重要里程碑。
根據該協議，DNP將集中提供0.15/0.13微米製程世代的高階光罩予聯電，並強調採用先進且高品質的光學微距校正(Optical Proximity
Correction, OPC)相位移光罩(Phased Shift Mask,
PSM)。至於0.10微米技術的合作開發，將由兩家公司工程師組成技術研究團隊並制定此項高階製程的光罩規格，俾便聯電客戶將來廣泛採用。
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