日本大日本印刷(Dai Nippon Printing)將與聯電(UnitedMicroelectronics)技術合作，共同開發0.1微米製程的photomask(光罩)製造技術。

大日本印刷首先將投注30億日圓資金，擴建日本上福岡境內工廠，專為聯電製造0.15、0.13微米製程的光罩，今後 3年內將可接到聯電逾30億日圓訂單。而藉由今後3年內提供聯電0.13、0.15微米製程的光罩，大日本印刷在亞洲遮光膜製品銷售的市佔率將提升到30%。